診療放射線技師国家試験 第68回 問165

・H / ・OH

放射線の間接作用は、水分子が放射線によって電離・励起されて生じた・H(水素ラジカル)や・OH(ヒドロキシルラジカル)などのフリーラジカルが標的分子に作用して障害を与える機序を指す。システインやグルタチオン、システアミンはこれらのラジカルを消去する放射線防護剤として働く。